実験・研究開発向けALD装置
2重構造チャンバ(特許出願中)によるメンテナンス負荷低減と内容積のコンパクト化
弊社の蓄積した熱ソリューションを集約し、最適な温度管理を実現
従来から培って参りました弊社熱ソリューションを集約し、材料気化から排気まで、最適で安全な温度管理を実現しております。
1) プリカーサボトルのマルチゾーンヒーティング
プリカーサボトルに対して、内蔵するプリカーサの気化特性に合わせて、複数のゾーンに分けた加熱管理を行います。これによってプリカーサの熱分解リスクの低減と、バブリングを用いないパーティクルレス化、残留ガスの低減を実現しています。
2) 供給・排気ラインの最適温度管理
供給及び排気ラインへは、弊社独自開発のイージートレースヒータを搭載し、温度分布の改善と省スペース化によるコンパクト設計を実現しています。また加熱制御エリアを細分化、最適化し、無駄な加熱や堆積物の防止に努めるとともに、各制御エリアごとに独立した各種監視機能を備え、ヒータを要因とした事故災害を未然に防止します。
3) Hi-Watty(AlNヒータ)を採用したヒートステージ
基板加熱を行うヒートステージには弊社製Hi-Wattyを搭載し、非常に速い昇温性能によって、プロセス開始までの準備時間を短縮しています。
4) WEXによるキャリアガス、パージガス温度管理
御好評を頂いている弊社オリジナル製品のWEX(ヒートエクスチェンジャー)をパージライン、キャリアラインに採用し、加熱ガスを供給する事によって温度低下の防止やミキシングガスの温度管理を行っています。弊社WEXは高いクリーン性能を誇り、供給ガスや材料の純度を損ないません。
多様なカスタマイズと安全構造
弊社成膜装置には仕様を固定したカタログモデルは御座いません。ベースモデルを基に都度お客様と仕様を詰め、ニーズにマッチした製品を提供させて頂きます。 安全仕様に付きましても、多彩なハードインターロック、ソフトインターロックによる監視により、お客様を始め装置の安全を見守ります。
弊社独自開発の2重チャンバ構造や偏向ノズル、ヒートステージ機構を備え、高品質な成膜とメンテナンス負荷の低減を実現しています。また、従来ユーザサイドで用意する必要のある各種付帯設備を標準搭載しており、装置導入に伴う設備投資コストを最小限に抑えております。その他にも多彩な特徴を備え、ユーザ様のさまざまなニーズにお応えします。
デモ機を弊社相模原事業所内に常設しております。当デモ機に関するお問い合わせ、御見学や受託成膜のご相談等は弊社営業部担当へお尋ねください。
準量産向けPEALD成膜装置を鋭意開発しています。初号機は弊社相模原事業所内にデモ機として設置致します。当装置に関するお問い合わせ、御見学やテスト成膜の御要望等は弊社営業部担当へお尋ねください。
プロセス | Thermal Atomic Layer Deposition |
---|---|
チャンバ構成 | 2重構造チャンバ |
ワークサイズ | Max 2inch |
成膜温度 | Max 400℃ |
成膜圧力 | 1Pa以上 |
成膜種 | 有機金属材料による酸化膜或いは窒化膜 ※酸化膜と窒化膜は同一装置内で併用できません。 |
プロセスチャンバ | 8inch用 SU316オリジナル (オプションで6inch対応可能) |
---|---|
成膜種 | 酸化膜 (仕様変更により窒化膜にも対応可能) |
基板温度 | 最高500℃ |
成膜圧力 | 1Pa以上 到達圧力8×10-2Pa |
プラズマ出力 | 最大1kW |
プラズマガス種 | Ar O2 H2 |
プリカーサ | 3種類搭載可能 |
搭載機器 | APC(プリカーサと還元材を独立排気)Ar精製器ALDモニタその他 |
・Al2O3 ・TiO2 ・HfO2 ・ZrO2 ・TiN ・AlN 等
その他膜種についてはお問い合わせください。